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精度再提高30%!ASML全新EUV光刻机如期交付

2021-07-22 10:26来源:中国企业新闻观察网作者:chinaenwc点击:

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图源:路透

集微网消息(文/思坦),ASML 21日发布财报透露,其第一台全新极紫外光刻机TWINSCAN NXE:3600D已交付给客户,相较于前一代产品,该机型生产力提高了15%-20%,套刻精度提高了30%。

ASML最早于2019年年报中披露,其正在研发新一代的极紫外光刻机,当时计划在2022年年初开始出货,在2024或者2025年大规模生产。在去年第三季度财报中,ASML又将出货日程提前至2021年年中。

根据此前媒体猜测,台积电、三星的制程工艺都已提升到了7nm和5nm,首台TWINSCAN NXE:3600D预计也会交由这两家代工厂中的一家。

ASML还在财报中表示,正增加EUV在存储产业的量产应用,并将协助三个DRAM客户实现在未来的制程节点中导入EUV。

据悉,ASML目前在售极紫外光刻机有两款,分别是TWINSCAN NXE:3400B和TWINSCAN NXE:3400C,均采用波长为13.5nm的极紫外光源,30mJ/cm2的曝光速度下,每小时分别可处理125片、170片晶圆。


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